又一国产造芯设备崛起！现在Intel台积电要下单了

发布时间：2022-01-10 17:21 所属栏目：6 来源：互联网

导读：

导读：提起制造芯片，许多人脑海中第一个浮现的都是光刻机。确实，我国光刻机技术起步晚、水平不足，至今仍搞不定这个核心设备，一直被西方国家卡脖子，是万千国人的痛点。光刻机虽然是核心，但仅仅只参与芯片光刻这个环节。而另一个贯穿芯片生产首尾、甚至能直接

　　提起制造芯片，许多人脑海中第一个浮现的都是光刻机。确实，我国光刻机技术起步晚、水平不足，至今仍搞不定这个核心设备，一直被西方国家卡脖子，是万千国人的痛点。

　　光刻机虽然是核心，但仅仅只参与芯片光刻这个环节。而另一个贯穿芯片生产首尾、甚至能直接影响到芯片良率的设备，我国发展也满人一步，一直受外国牵制，这就是半导体清洗设备。

　　在整个芯片制造过程中，硅片光刻加工、刻蚀抛光、封装前后的清洁，都需要小心的清洗，可以说半导体清洗设备参与了三分之一的步骤，其重要性不言而喻。

　　半导体清洗对设备和技术的要求都很高，芯片制程缩得越小，清洗难度就越高，流程也就越复杂。不过作为“后勤保障”的清洗设备，不如刻蚀机、光刻机那样高调，早些年市场规模并不大。

　　最近几年，半导体清洗设备的市场规模可谓是爆炸式增长，2016年我国的市场规模还只有26.47亿美元，到2020年，就有74.56亿美元了。

　　在这么大的市场规模中，国产的半导体清洗设备所占据的市场份额，少得可怜。由于我国半导体产业发展起步比欧美日韩国家要晚，同样的清洗设备发展也晚很多。

　　10年前，全球清洗设备市场的绝大多数份额都被美国、日本、韩国三个国家占据，瓜分了97.7%的市场份额。尤其是日本，全球一共4家清洗设备巨头，日本独占两家，其中日本迪恩士公司的市场份额高达45.1%。

　　即便身处外国巨头的多面夹击，我国的半导体清洗设备依然取得了重大突破。最近几年，在我国的半导体清洗市场中，国产清洗设备的占有率逐渐提升。不仅打破了外企垄断，还成了我国半导体设备中自主化最高的设备之一。

　　今年前10个月，我国的晶圆企业一共招标了96台清洗设备，中国企业中标了37台，中标的企业有盛美上海、北方华创、屹唐半导体和芯源微，占据总额的38.5%。

　　
　　几个外国巨头目前生产的半导体清洗设备采用的方法多为机械刷洗、旋转喷淋和容器浸泡，化学浸泡和物理清洗结合。其中旋转喷淋是它们最常用的方法，7nm及以上的硅片清洗都可以完成。

　　别人在这些技术方法上已经取得了难以企及的成绩，我国的几个清洗设备生产企业就选择在这些常用方法之外，钻研其他清洗方法，涉足外企没去过的领域。

　　芯源微是使用的二流体清洗法，可以精准控制水流和惰性气体。芯源微今年发布的财报明确表明，目前芯源微能清洗40nm规格的硅片。北方华创和盛美上海则是在兆声波技术上布局，目前可以实现28nm的清洗并量产此规格的清洗设备。

（编辑：ASP站长网）